蘇大維格表示，公司激光直寫光刻機具體應用包括柔性電子，MEMS 以及特定領域半導體比如半導體功率芯片等產品的研發與制造公司光刻設備整機除自用及向國內外高校及科研院所銷售外，2021 年開始向企業拓展，并成功實現了對半導體領域企業的銷售，在光刻機關鍵器件方面，公司向上海微電子提供了其半導體領域投影式光刻機用的定位光柵部件

資料顯示，蘇大維格主要從事微納關鍵技術，高端智能制造設備和功能材料的創新應用，是首批認證的國家高新技術企業其光刻儀器事業部研制了多種用于 MEMS 芯片的光刻設備 MiScan200，微納光學的 MicroLab和超表面，裸眼 3D 顯示，光電子器件研究的納米光刻設備 NanoCrystal

該報告進一步比較了各廠商的IMU制造技術水平，還比較了同一廠商選擇并集成到SystemPlusConsulting樣本中包含的智能手機中的不同技術。最后，報告對樣本中最常見的型號進行了全面的技術和成本分析，包括MEMS，ASIC和封裝。

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